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吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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晶圓拋光液--磷化銦Inp Slurry CMP拋光液

產(chǎn)品分類(lèi): 拋光液
    產(chǎn)品名稱(chēng):磷化銦晶圓拋光液/InP拋光漿料/磷化銦slurry
    磨料類(lèi)型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
    磨料粒徑:專(zhuān)利化學(xué)配方/可定制
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      磷化銦InP拋光液/Slurry·參數(shù)吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      產(chǎn)品名稱(chēng):磷化銦晶圓拋光液/InP Slurry/CMP化學(xué)機(jī)械拋光/半導(dǎo)體拋光液

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介:為半導(dǎo)體行業(yè)/光學(xué)行業(yè)調(diào)配的磷化銦InP拋光液/CMP Slurry組合漿料,適用于磷化銦晶圓的坦化加工。設(shè)計(jì)滿(mǎn)足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范,在磷化銦晶圓拋光應(yīng)用中提供了高性能和低成本的解決方案。

      磷化銦拋光液詳情說(shuō)明(700).jpg

      吉致電子CMP磷化銦研磨液/拋光液特點(diǎn)——

      1.配方設(shè)計(jì)滿(mǎn)足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范,用于磷化銦晶圓的快遞減薄和拋光。

      3.實(shí)現(xiàn)InP表面高去除率,無(wú)亞表面損傷,并提供出色的穩(wěn)定性,可循壞使用。

      4.吉致電子藍(lán)寶石Slurry拋光液組合可提供性能佳且具有成本效益的解決方案。

      5.可根據(jù)拋磨要求1V1提供定制解決方案。


      吉致電子CMP拋光液 金屬拋光液 手機(jī)拋光液

      吉致電子磷化銦InP Slurry應(yīng)用

      為光學(xué)表面提供高光潔度

      拋光相關(guān)類(lèi)型的表面(研磨或機(jī)械拋光)以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)光滑的表面光潔度

      磷化銦InP拋光對(duì)比

      吉致電子磷化銦研磨液/InP晶圓拋光液 廣泛應(yīng)用于CMP領(lǐng)域,包括Lapping機(jī)、五軸機(jī)臺(tái)、以及其他研磨拋光機(jī)臺(tái)等


      磷化銦CMP拋光液拋光過(guò)程中具有:

      吉致電子磷化銦拋光液滿(mǎn)足不同工藝階段的規(guī)范,

      從我們的優(yōu)化解決方案能實(shí)現(xiàn)高去除率,無(wú)亞表面損傷,同時(shí)提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。

      吉致電子磷化銦拋光液/InP Slurry拋光液儲(chǔ)存方法:

      1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

      2.低于0℃以上儲(chǔ)存,防止結(jié)冰,在無(wú)度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

      3.避免敞口長(zhǎng)期與空氣接觸。

      吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格:

      吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

      吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

      吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!

      吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

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