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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]CMP拋光液---復(fù)合磨料拋光液[ 2022-09-15 13:53 ]
  復(fù)合磨料拋光液  CMP拋光液產(chǎn)品除了混合磨料外，也有利用各種新興材料制備復(fù)合磨料，常用的方法有納米粒子包覆和摻雜等。如通過結(jié)構(gòu)修飾改善納米粒子的分散性、復(fù)合其他類型材料提升在酸、堿性拋光液中的綜合性能等。  復(fù)合磨料拋光液相比混合磨料和單一磨料，在材料去除率及表面粗糙度方面均有明顯的優(yōu)勢，能實(shí)現(xiàn)納米級或亞納米級超低損傷的表面形貌。但復(fù)合磨料的制備工藝相對比較復(fù)雜，目前僅處于實(shí)驗(yàn)室探索階段，距離復(fù)合磨料在大規(guī)模生產(chǎn)上的應(yīng)用還有較遠(yuǎn)的距離。  吉致電子科技25年拋光液生產(chǎn)廠
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[常見問題]磨料在CMP拋光液中的作用[ 2022-08-26 14:45 ]
  拋光磨料是CMP拋光液中的主要成分，在拋光過程中通過微切削、微擦劃、滾壓等方式作用于工件表面，達(dá)到機(jī)械去除材料的作用。  拋光液根據(jù)磨料成分一般分為單一磨料拋光液，混合磨料拋光液，復(fù)合磨料拋光液  磨料在CMP拋光過程中起到的作用為：（1）機(jī)械作用的實(shí)施者，起機(jī)械磨削作用；（2）傳輸物料的功能，不僅將新鮮漿料傳輸至拋光墊與被拋材料之間，還將反應(yīng)物帶離材料表面，使得材料新生表面露出，進(jìn)一步反應(yīng)去除。所以選擇拋光液時(shí)記得考慮分散性好，流動(dòng)性好，硬度適中，易于清洗的拋光液產(chǎn)品，有相關(guān)問題
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