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吉致電子拋光材料 源頭廠家
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[行業(yè)資訊]氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光[ 2024-01-10 11:33 ]
  氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光,需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來研磨快速去除表面缺陷和不良,精細拋光液用來平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專用研磨液/拋光液能減少研磨時間,同時提高陶瓷工件拋光的質(zhì)量,幫助客戶縮短工時提高工作效率。 陶瓷基板的研磨過程一般包括雙面研磨(35-60分鐘)和精細拋光(120分鐘)。在不到2.5小時的時間里,得到10-15納米的Ra。 氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案:①雙面研磨(35-60分鐘)搭配吉致電子類多晶研磨液 ②超精細拋
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