氮化鋁/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨拋光，需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來研磨快速去除表面缺陷和不良，精細(xì)拋光液用來平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專用研磨液/拋光液能減少研磨時間，同時提高陶瓷工件拋光的質(zhì)量，幫助客戶縮短工時提高工作效率。

 陶瓷基板的研磨過程一般包括雙面研磨（35-60分鐘）和精細(xì)拋光（120分鐘）。在不到2.5小時的時間里，得到10-15納米的Ra。

 氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案：①雙面研磨（35-60分鐘）搭配吉致電子類多晶研磨液 ②超精細(xì)拋光(240-480分鐘)：納米金剛石研磨液 + 研磨墊

 吉致電子拋光液廠家，研發(fā)生產(chǎn)硬質(zhì)陶瓷、氮化鋁基材、氮化硅基材等提供精密研磨拋光耗材及工藝，為您提供品質(zhì)CMP拋光配套產(chǎn)品和設(shè)備及拋光解決方案，讓解決您的拋光難題。

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