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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]吉致電子:LN/LT晶體CMP拋光解決方案,賦能光子芯片與量子通信[ 2025-12-19 14:26 ]
在光電信息、量子通信、半導(dǎo)體激光等高端產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,鈮酸鋰(LN)、鉭酸鋰(LT)晶體憑借優(yōu)異的電光、聲光及非線性光學(xué)特性,成為制造高性能器件的核心基材。而晶體表面的光潔度直接決定器件的光傳輸效率、調(diào)制性能與長(zhǎng)期穩(wěn)定性,化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)作為實(shí)現(xiàn)晶體超精密表面加工的關(guān)鍵工藝,其技術(shù)水準(zhǔn)與配套耗材(拋光液、拋光墊)的適配性,成為突破高端晶體應(yīng)用瓶頸的核心支撐。吉致電子深耕光電材料精密加工領(lǐng)域,針對(duì)LN/LT晶體的材質(zhì)特性,打造定制化CMP拋光解決方案,通過(guò)精準(zhǔn)匹配拋光液配方與拋光墊類型,實(shí)現(xiàn)從常規(guī)精密拋光到原子級(jí)超光
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[行業(yè)資訊]光儲(chǔ)行業(yè)玻璃硬盤CMP拋光解決方案[ 2025-07-22 16:50 ]
一、玻璃硬盤CMP拋光液的技術(shù)原理CMP拋光是一種結(jié)合化學(xué)腐蝕和機(jī)械研磨的精密表面處理技術(shù)。對(duì)于玻璃硬盤基板而言,CMP拋光過(guò)程涉及復(fù)雜的物理化學(xué)相互作用:化學(xué)作用:拋光液中的化學(xué)組分與玻璃表面發(fā)生反應(yīng),生成易于去除的軟化層或反應(yīng)產(chǎn)物。對(duì)于硅酸鹽玻璃,通常涉及Si-O鍵的水解和離子交換反應(yīng)。機(jī)械作用:拋光墊和研磨顆粒通過(guò)機(jī)械摩擦去除表面反應(yīng)層,同時(shí)暴露出新鮮表面繼續(xù)參與化學(xué)反應(yīng)。協(xié)同效應(yīng):理想的拋光過(guò)程要求化學(xué)腐蝕速率與機(jī)械去除速率達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,以獲得超光滑無(wú)損傷的表面。二、玻璃硬盤對(duì)CMP拋光液的性能要求為滿足高
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