硫化鋅(ZnS)光學(xué)窗口片是一種重要的紅外光學(xué)材料，廣泛應(yīng)用于熱成像、導(dǎo)彈整流罩、激光窗口等領(lǐng)域。為確保ZnS光學(xué)窗口片具備超高表面平整度、優(yōu)異紅外透過(guò)率(8–12 μm波段)和低缺陷率，化學(xué)機(jī)械拋光CMP成為其精密加工的核心工藝。

吉致電子憑借先進(jìn)的CMP技術(shù)，為硫化鋅光學(xué)元件提供高精度拋光解決方案，滿足軍工、光電、半導(dǎo)體等行業(yè)的高標(biāo)準(zhǔn)需求。

一、硫化鋅CMP拋光的關(guān)鍵挑戰(zhàn)

硫化鋅材料的特性:

①硬度適中但脆性高(莫氏硬度3-4)，易產(chǎn)生劃痕或亞表面損傷。

②化學(xué)活性較高，需避免過(guò)度腐蝕導(dǎo)致硫流失或表面霧化。

③各向異性拋光，不同晶面需差異化處理。

硫化鋅光學(xué)窗口片的嚴(yán)苛要求：

①表面粗糙度(Ra)≤ 0.5 nm（超光滑表面）。

②面形精度，確保光學(xué)性能。

③無(wú)亞表面損傷，避免紅外透過(guò)率下降。

二、吉致電子的CMP技術(shù)優(yōu)勢(shì)

①高精度拋光：Ra ≤ 0.5 nm，PV ≤ λ/4，滿足紅外光學(xué)嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。

②低損傷工藝：優(yōu)化磨料與配比，減少亞表面缺陷。

③智能化控制：光學(xué)檢測(cè)實(shí)時(shí)監(jiān)控表面質(zhì)量。

④環(huán)保方案：采用生物基絡(luò)合劑，減少重金屬污染。

吉致電子硫化鋅專用CMP拋光液，提供安全高效的機(jī)械研磨，納米磨料及中性ph值Slurry配方，低硬度以減少劃痕及表面化學(xué)腐蝕，通過(guò)優(yōu)化各組分協(xié)同作用，可提高拋光效率并減少表面缺陷。

• 硫化鋅光學(xué)窗口片的CMP工藝是紅外光學(xué)器件制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。吉致電子通過(guò)精密化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)，制備而成的光學(xué)玻璃拋光液，確保ZnS窗口片具備超光滑表面和優(yōu)異光學(xué)性能，廣泛應(yīng)用于軍工、航天、高端光電領(lǐng)域。

• 如需定制化CMP解決方案，歡迎聯(lián)系吉致電子技術(shù)團(tuán)隊(duì)

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